顯影機

顯影機是CKF系列產品基礎品種之一，該機採用先進的單片微型機程序自動控制，顯影質量好工藝條件穩定可靠適應宜科研和生產單位大規模集成電路和其它半導體器件的光刻工藝中作顯影之用。
本機顯影工藝採用了先進的噴霧方式，可根據工藝要求噴霧狀態電機的轉數，程序時間的工藝參數都可在很寬的數值範圍內調整，其程序為延時吸片、顯影、漂洗、乾燥、延時復位。
採用噴霧顯影工藝后電路圖形清晰完整，特別是對較細線條電路採用此工藝可得到很高的效果。
本設備除能實現顯影工藝外亦可進行人工塗膠，工藝指標與本系列產品CKF-411型塗膠機相同
主要技術指標
顯影工位： 一個工位
程序時間： 顯影1—99秒 漂洗1—99秒 乾燥1—99秒
旋轉器轉數： 500—8000轉/分（連續可調）
硅片直徑： Φ30—Φ75mm
淨化效果： 100級（美國聯邦標準）
操作區風速： 0.3—0.5米/秒
氣流狀態： 垂直層流
外形尺寸： 650Χ750Χ1620mm