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超小型離子濺射裝置 VPS-020/ VPS-050
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| 概 要 |
| 真空蒸著よりも緻密で高精度な薄膜を再現性よく形成し、真空蒸著では不可能だった高融點物質の成膜も可能なスパッタリング裝置です。 |
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| 特 長 |
| １． |
操作が簡単で試料の裝置およびコーティング処理が短時間でできます。 |
| ２． |
コーティング時間を設定してスイッチボタンを押すだけです。
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VPS-020 |
VPS-050 |
| 標準配件 |
Dia.50mm Au1個（鍍膜用）
Dia.50mm Al1個（刻蝕用） |
Dia.100mm Au1個（鍍膜用）
Dia.100mm Al1個（刻蝕用） |
| 試料台 |
Dia.70mm |
Dia.100mm |
| （高度調節範囲 15mm、20mm、60mm） |
| チャンバー |
Dia.120mm、120mm(D)不鏽鋼制 |
Dia.240mm、240mm(D) 不鏽鋼制 |
| 油旋片泵 |
G-20DA型（20 L/min） |
G-100D型（100 L/min）オプション |
| 高圧電源 |
１kV／0～20mA（帶電流計、內置安全電路） |
| 鍍膜方式 |
AC／DC Sputtering |
| 刻蝕方式 |
AC／DC Sputtering |
| 時間 |
0～15min、連続可変 |
| 氣體調整機構 |
針閥 |
| 所要電力 |
単相 100V 0.4kVA |
単相 100V 0.5kVA |
| 外型尺寸 |
160mm(W)×365mm(D)×317mm(H)
8.5kg |
282mm(W)×485mm(D)×440mm(H)
20kg |
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